Verfahren zur Strukturierung dünner Schichten mittels optischer Lithographie und Anordnung zur Durchführung der optischen Lithographie: Praktische Erprobung

Research output: Intellectual Property › Patent application/Patent

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Original languageGerman
Patent numberDE10326223
Publication statusPublished - 2008
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ORCID /0000-0002-7625-343X/work/150881359

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